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| 产品编号 | CAS号 | 项目名称规格 | 分子式 | 加入购物车 |
|---|---|---|---|---|
| S817568 | 60676-86-0 | 二氧化硅晶体, 99.999%,直径2mm,高度10mm,圆柱体状 Silicon dioxide, 99.999%,直径2mm,高度10mm,圆柱体状 |
SiO2 | |
| P966815 | 812-15-7 | 五甲基二硅烷, 97% Pentamethyldisilane, 97% |
C5H16Si2 | |
| S861488 | 7631-86-9 | 亲水型纳米二氧化硅, ＞99%metals basis，粒径：15nm，比表面积（BET）：300±50m2/g Silicon dioxide, ＞99%metals basis，粒径：15nm，比表面积（BET）：300±50m2/g |
SiO2 | |
| M832090 | 60676-86-0 | 亲水性气相纳米二氧化硅, 99.9%,比表面积≥120m2/g；粒径：30nm Monodisperesed silica micropheres, 99.9%,比表面积≥120m2/g；粒径：30nm |
SiO2 | |
| S817570 | 60676-86-0 | 亲水性气相纳米二氧化硅Hydr, 99.8%,比表面积（BET）：300m2/g；粒径：7-40nm Silicon dioxide, 99.8%,比表面积（BET）：300m2/g；粒径：7-40nm |
SiO2 | |
| N817579 | 60676-86-0 | 亲水性气相纳米二氧化硅Hydrophilic-150型, 99.8%,比表面积（BET）：150m2/g；粒径：7-40nm Nano fumed silica, 99.8%,比表面积（BET）：150m2/g；粒径：7-40nm |
SiO2 | |
| S817565 | 60676-86-0 | 亲水性气相纳米二氧化硅Hydrophilic-200型, 99.8%,比表面积（BET）：200m2/g;粒径：7-40nm Silicon dioxide, 99.8%,比表面积（BET）：200m2/g;粒径：7-40nm |
SiO2 | |
| S817577 | 60676-86-0 | 亲水性气相纳米二氧化硅Hydrophilic-380型, 99.8%,比表面积（BET）：380m2/g;粒径：7-40nm Silicon dioxide, 99.8%,比表面积（BET）：380m2/g;粒径：7-40nm |
SiO2 | |
| N817569 | 60676-86-0 | 亲水气相纳米二氧化硅Hydrophilic-200B型, 99.8%,比表面积（BET）：200m2/g;氯化物：0.0125 Nano fumed silica, 99.8%,比表面积（BET）：200m2/g;氯化物：0.0125 |
SiO2 | |
| S697871 | 7631-86-9 | 介孔二氧化硅, ≥99.9%,粒径:≥1 μm,孔径:6-10 nm,总孔容:≥0.6 cm³/g,比表面积(BET):≥500 m²/g mesoporous silica, ≥99.9%,粒径:≥1 μm,孔径:6-10 nm,总孔容:≥0.6 cm³/g,比表面积(BET):≥500 m²/g |
SiO2 | |
| M697870 | 7631-86-9 | 介孔二氧化硅, ≥99.9%,粒径:≥1 μm,孔径:4.5-7 nm,总孔容:≥0.2 cm³/g,比表面积(BET):≥500 m²/g mesoporous silica, ≥99.9%,粒径:≥1 μm,孔径:4.5-7 nm,总孔容:≥0.2 cm³/g,比表面积(BET):≥500 m²/g |
SiO2 | |
| M697868 | 7631-86-9 | 介孔二氧化硅纳米球, ≥99.9%,粒径≤0.2 μm,孔径:≥4.0 nm,总孔容≥0.7 cm³/g,比表面积(BET):≥500 m²/g mesoporous silica nanospheres, ≥99.9%,粒径≤0.2 μm,孔径:≥4.0 nm,总孔容≥0.7 cm³/g,比表面积(BET):≥500 m²/g |
SiO2 | |
| S964357 | 60676-86-0 | 介孔结构的二氧化硅, 99% trace metals basis,SBA-15 mesostructured Silica, 99% trace metals basis,SBA-15 |
SiO2 | |
| B836012 | 12008-29-6 | 六硼化硅, 98% trace metals basis Boron silicide, 98% trace metals basis |
B6Si,maycontaintracesofSiandotherB-Siphases | |
| D966261 | 4098-30-0 | 十二甲基环己硅烷, ≥97%(GC) Dodecamethylcyclohexasilane, ≥97%(GC) |
C12H36Si6 | |
| M964359 | 60676-86-0 | 单分散二氧化硅, 无孔,粒径:50μm Monodisperse silicon dioxide, 无孔,粒径:50μm |
SiO2 | |
| M964360 | 60676-86-0 | 单分散二氧化硅, 无孔,粒径:1μm Monodisperse silicon dioxide, 无孔,粒径:1μm |
SiO2 | |
| M964361 | 60676-86-0 | 单分散二氧化硅, 无孔,粒径:500nm Monodisperse silicon dioxide, 无孔,粒径:500nm |
SiO2 | |
| B869661 | 18038-55-6 | 双(三氯甲硅基)乙炔, 97% Bis(trichlorosilyl)acetylene, 97% |
C2Cl6Si2 | |
| S817720 | 1070-89-9 | 双(三甲基硅烷基)氨基钠, 98% Sodium bis(trimethylsilyl)amide, 98% |
C6H18NNaSi2 |
