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COA查询：

液相沉积，也称化学溶液沉积法(Chemical solution deposition, CSD)包括溶胶-凝胶法和金属有机热分解法(metal organic thermal decomposition, MOD)，

是指颗粒(原子或分子)从溶液或悬浮液中沉降到预先存在的表面，导致新相生长的过程。CSD可用于制备铁电薄膜或多层复合薄膜。



化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD)是将一种或多种含有薄膜元素的化合物引入到反应腔中，然后通过气相化学反应在衬底表面沉积固体薄膜来制备材料的一种气相生长方法。



原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种将物质以单原子薄膜的形式放置在衬底表面的方法。

ALD由于其高度可控的(厚度、成分和结构)，优异的沉积均匀性和一致性，在微纳米电子和纳米材料领域有着广泛的应用。


图片来源：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.chemrev.9b00164

产品编号	项目名称规格	分子式	加入购物车
Z875025	正丁醇锆(IV), 20 wt. %正丁醇溶液 Zirconium(IV) butoxide solution, 20 wt. %正丁醇溶液	ZrO₄C₁₆H₃₆	点击收藏价格库存

Z875024	正丁醇锆(IV), 40 wt. %正丁醇溶液 Zirconium(IV) butoxide solution, 40 wt. %正丁醇溶液	ZrO₄C₁₆H₃₆	点击收藏价格库存

Z923165	叔丁醇锆, electronic grade, 99.999% trace metals basis Zirconium(IV) tert-butoxide, electronic grade, 99.999% trace metals basis	C₁₆H₃₆O₄Zr	点击收藏价格库存

V820451	乙酰丙酮氧钒, 99% Vanadyl acetylacetonate, 99%	C₁₀H₁₄O₅V	点击收藏价格库存

V820432	乙酰丙酮钒(III), 97% Vanadium(III) acetylacetonate, 97%	C₁₅H₂₁O₆V	点击收藏价格库存

T914690	叔丁醇钛, 98% Titanium(IV) tert-butoxide, 98%	C₁₆H₃₆O₄Ti	点击收藏价格库存

T871878	六羰基钨, 99.9% metals basis Tungsten hexacarbonyl, 99.9% metals basis	C₆O₆W	点击收藏价格库存

T819663	六羰基钨, 97% Tungsten hexacarbonyl, 97%	C₆O₆W	点击收藏价格库存

T819662	六羰基钨, 99% Tungsten hexacarbonyl, 99%	C₆O₆W	点击收藏价格库存

M886511	五氯化钼, 99.90% Molybdenum(V) chloride, 99.90%	MoCl₅	点击收藏价格库存

M874777	甲基三氯硅烷, 99% Methyltrichlorosilane, 99%	CH₃SiCl₃	点击收藏价格库存

M838575	十羰基二锰, 98% Manganese carbonyl, 98%	C₁₀Mn₂O₁₀	点击收藏价格库存

M821331	乙酰丙酮锰(II), ≥97% Manganese(II) acetylacetonate, ≥97%	C₁₀H₁₄MnO₄	点击收藏价格库存

M813342	乙酰丙酮镁, 二水合物, 98% Magnesium acetylacetonate dihydrate, 98%	C₁₀H₁₄MgO₄·2H₂O	点击收藏价格库存

F809617	二茂铁, 99% Ferrocene, 99%	FeC₁₀H₁₀	点击收藏价格库存

F809616	二茂铁, 98% Ferrocene, 98%	FeC₁₀H₁₀	点击收藏价格库存

E922601	乙酰乙酸乙酯钠盐, 90% Ethyl acetoacetate sodium salt, 90%	C₆H₉O₃Na	点击收藏价格库存

D868893	二羰基环戊二烯钴(I), 95% Dicarbonylcyclopentadienylcobalt(I), 95%	C₇H₅CoO₂	点击收藏价格库存

Z888687	氯化锆(IV), 99.5%, hafnium chloride<50ppm Zirconium(IV) chloride, 99.5%, hafnium chloride<50ppm	ZrCl₄	点击收藏价格库存

Z886148	乙氧基锆, 97% Zirconium(IV) ethoxide, 97%	C₈H₂₀O₄Zr	点击收藏价格库存

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