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| 别名: | 氟化铵(12125-01-8)和氢氟酸（7664-39-3）等缓冲液的混合物 | ||
|---|---|---|---|
| Cas号: | 物化性质: | ||
| 分子式: | 熔点: | ||
| 分子量: | 沸点: | ||
| EINECS编号: | 密度: | ||
| MDL号: | 储存条件: | 室温 | |
| 技术规格说明书 中文版MSDS 英文版MSDS | |||
| 货号 | 规格 | 可用库存 | 销售价(RMB) | 您的折扣价(RMB) | 数量 | 加入购物车 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| B980851-250ml | 6:1 | 上海：现货 山东：现货 广东：现货 重庆：现货 河北：现货 |
320.00 | 加入购物车 | ||
| B980851-500ml | 6:1 | 上海：现货 山东：- 广东：- 重庆：现货 河北：- |
630.00 | 加入购物车 | ||
| B980851-1L | 6:1 | 上海：现货 山东：- 广东：- 重庆：现货 河北：- |
1,045.00 | 加入购物车 | ||
| B980851-bulk | 6:1 | POA | POA | POA | 价格咨询 | |
| 储存条件: | 室温 |
|---|---|
| 颜色: | 无色液体 |
| 产品描述: |
BOE 6:1是6份体积的40%氟化铵和1份体积的49%氢氟酸。
缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）是一种用于微细加工的液体腐蚀剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）的薄膜。它是氟化铵（NH4F）和氢氟酸（HF）等缓冲液的混合物。浓缩的 HF 蚀刻二氧化硅的速度太快，不能很好地进行工艺控制，同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。
应用：缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）6：1可用于栅极光刻（gate photolithography）的AlGaN / GaN基高电子迁移率晶体管的氧化物去除。它可用于缓冲氧化物蚀刻剂法，制造微型生物芯片。 |
