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缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的湿蚀刻剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)薄膜。它是一种缓冲剂的混合物,例如氟化铵(NH4F)和氢氟酸(HF)。浓缩HF对二氧化硅的蚀刻速度太快,无法实现良好的工艺控制,并且还会剥离用于光刻图案化的光刻胶。
应用:含表面活性剂的缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)6:1可用于去除基于AlGaN/GaN 高电子迁移率晶体管的氧化物,用于栅极光刻。也可用于缓冲氧化物蚀刻剂方法,制造微生物芯片。
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