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缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的湿蚀刻剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)薄膜。它是一种缓冲剂的混合物,例如氟化铵(NH4F)和氢氟酸(HF)。浓缩HF对二氧化硅的蚀刻速度太快,无法实现良好的工艺控制,并且还会剥离用于光刻图案化的光刻胶。
应用:缓冲氧化物蚀刻剂(BOE) 10:1可用于刻蚀微机电系统 (MEMS)用碳化钛。也可用于旋涂掺杂材料(SOD)的蚀刻,用于开发导体-绝缘体-导体隧穿二极管。它还用于提高熔融石英器件的表面质量。
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