W698520 |
二硫化钨粉末 3.8μm, 粒径:3.8μm |
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W698519 |
二硫化钨粉末 5.0μm, 粒径:5.0μm |
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W698517 |
二硫化钨粉末 0.58μm, 粒径:0.58μm |
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W698521 |
二硫化钨粉末 0.88μm, 粒径:0.88μm |
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T697690 |
薄层二硫化钨分散液 浓度1 mg/mL, 浓度:1mg/ml溶剂:水,稳定剂:LiOH |
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T697688 |
薄层二硫化钨分散液 浓度1 mg/mL, 浓度:1mg/ml,溶剂:DMSO(不低于15度保存),稳定剂:LiOH |
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T697689 |
薄层二硫化钨分散液 浓度1 mg/mL, 浓度:1mg/ml,溶剂:乙醇,稳定剂:LiOH |
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T697687 |
薄层二硫化钨分散液 浓度1 mg/mL, 浓度:5mg/ml,溶剂:乙醇,稳定剂:LiOH |
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F698982 |
2D CVD蓝宝石基底单层WS2连续薄膜, 尺寸:1cm x 1cm |
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F697679 |
小片径少层二硫化钨分散液 浓度1 mg/mL, 浓度: 1mg/ml,溶剂: 水,稳定剂:LiOH |
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F697678 |
小片径少层二硫化钨分散液 浓度1 mg/mL, 浓度: 1mg/ml,溶剂: 乙醇,稳定剂:LiOH |
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F697677 |
小片径少层二硫化钨分散液 浓度0.1mg/mL(送原液), 浓度: 0.1mg/ml,溶剂: 水 |
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F697675 |
小片径少层二硫化钨分散液 浓度0.1mg/mL(送原液), 浓度: 0.1mg/ml,溶剂: 异丙醇 |
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F697676 |
小片径少层二硫化钨分散液 浓度0.1mg/mL(送原液), 浓度: 0.1mg/ml,溶剂: 乙醇 |
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T697642 |
小片径薄层二硫化钨分散液 浓度0.1 mg/mL(送原液), 浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 水 |
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T697641 |
小片径薄层二硫化钨分散液 浓度0.1 mg/mL(送原液), 浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 乙醇 |
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S698112 |
CVD二氧化硅/硅基底单层二硫化钨, 基底尺寸: 9 mm x 9 mm |
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T819253 |
二硫化钨, 99.9% metals basis,2 μm |
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T819254 |
二硫化钨, 99%,6μm |
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T886512 |
二硫化钨, 99.9%,3~4um |
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T888668 |
二硫化钨, 99.9%,8~10um |
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T888669 |
二硫化钨, 99.9%,17um |
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T888670 |
二硫化钨, 99.9%,23um |
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T888671 |
二硫化钨, 99.9%,27um |
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T888672 |
二硫化钨, 99.9%,100nm |
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T708965 |
二硫化钨, 99% metals basis, 25μm |
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W697643 |
二硫化钨分散液, 厚度:1-10层 浓度:1 mg/ml 物理法制备 溶剂 水-乙醇 |
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S697691 |
二硫化钨单层量子点溶液, 尺寸<10nm,浓度:0.5mg/ml 溶剂:水 |
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S698523 |
二硫化钨单层量子点粉末, 尺寸<10nm |
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F698487 |
小片径少层二硫化钨粉末(送原液), 片径:0.02-1 μm, 厚度: 1-8nm |
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T697686 |
小片径薄层二硫化钨分散液, 浓度:1mg/ml,溶剂:水,稳定剂:LiOH |
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T697684 |
小片径薄层二硫化钨分散液, 浓度:5mg/ml,溶剂:水,稳定剂:LiOH |
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T697685 |
小片径薄层二硫化钨分散液, 浓度:1mg/ml,溶剂:IPA,稳定剂:LiOH |
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S698130 |
小片径薄层二硫化钨纳米片, 片径: 20-500 nm |
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F698508 |
少层二硫化钨 粉末(送原液), 片径: 0.1-4μm, 厚度: 1-8 nm |
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F697683 |
少层二硫化钨分散液, 浓度: 1mg/ml, 溶剂: 水,稳定剂:LiOH |
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F697680 |
少层二硫化钨分散液, 浓度: 2mg/ml, 溶剂: DMF,稳定剂:LiOH |
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F698129 |
少层二硫化钨分散液, 浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 异丙醇 |
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F697681 |
少层二硫化钨分散液, 浓度: 1mg/ml, 溶剂: DMF,稳定剂:LiOH |
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F697682 |
少层二硫化钨分散液, 浓度: 1mg/ml, 溶剂: 乙醇,稳定剂:LiOH |
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M698110 |
机械剥离氧化硅/硅基底二硫化钨, 基底尺寸: 10 mm x 10 mm |
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H698417 |
纯进口HQ graphene二硫化钨晶体, 纯度: 99.995%, 尺寸: 约10mm |
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T698509 |
薄层二硫化钨粉末 (送原液), 片径: 0.1-4μm |
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